材料分析和成像

二次離子質譜儀 (SIMS)、電子探針微量分析 (EPMA)、低能電子誘發 X 射線發射光譜測定法 (LEXES) 和原子探針斷層攝影術 (ATP) 的領導者。創新材料表徵系統包括能量色散光譜(EDS) 和用於微量分析的波長色散光譜(WDS)、電子背散射衍射分析(EBSD)、通過TEM電子衍射進行的晶體學分析,以及微X 射線螢光分析(XRF)。一系列廣泛適用於各類終端市場的原子光譜儀,利用光發射、能量色散 X 射線螢光 (EDXRF)、ICP 或 ICP 質譜測量技術對固體和液體的元素組成進行分析。用於國防、汽車、工程、科學、醫學研究、製造包裝、體育和娛樂、電視和電影製作數位攝影等各行各業的高速數字成像系統。

子類別 : 成像、過程和質量控制、研究和實驗室